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尊龙凯时 - 人生就是搏!咨询预计2028年全球光刻设备市场规模将达3027.61亿元

光刻系统本质上是一个投影系统,光通过将要打印的图案蓝图投影。光刻设备是指在微加工中将几何图案转移到薄膜和衬底上的过程。它依靠一束紫外线将图案蚀刻到集成电路中。由于它有助于生产非常小的切口,同时具有高效率和成本效益,因此被广泛用于生产半导体产品和控制衬底的精确尺寸和形状。光刻设备可以根据所用光的类型进行分类,如紫外线、极紫外线等。

疫情还影响了光刻设备行业,原材料价格上涨,供应链中断,下游行业生产和运营受到影响。从长远来看,随着疫情影响的减弱、生产生活的恢复、技术的进步以及下游产业的不断发展,市场前景广阔。

驱动因素
产品功能和优势推动行业发展
得益于强劲的下游需求,预计光刻设备的数量和价格将增加,以推动市场空间的持续增长。价格方面:随着芯片制造工艺的不断升级,IC前端光刻设备的制造变得越来越复杂,其价格持续上涨。先进工艺的发展降低了晶体管的成本,但高端光刻设备继续增加。数量:较大的晶片尺寸和收缩工艺将增加生产线所需的设备数量,并提高性能要求

5G、AI和物联网等新兴技术应用对半导体的需求将为光刻设备带来增长潜力
新能源汽车行业的发展推动了光刻设备市场的增长

限制和挑战
高行业壁垒、高研发成本和对技术创新的持续需求
光刻设备是整个芯片制造业不可缺少的精密设备。由于光刻设备对光学技术和供应链有极高的要求,并且具有极高的技术壁垒,它已成为一个高度垄断的行业。超高端光刻机的关键部件来自不同的发达国家,如美国光源、德国透镜和法国阀门部件。新兴市场的新进入者通常只能提供低端光刻设备。由于光刻设备对知识产权和供应链的要求极高,新进入者很难在短期内达到国际领先水平
原材料价格波动

机会
光刻设备是光刻工艺的核心,也是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备。随着光刻设备技术的进步,光刻的工艺水平不断提高芯片的工艺和性能水平,促进了行业的发展

2021,中国光刻设备市场份额为53.73%。

ASML控股公司
ASML Holding N.V.(通常简称为ASML,原意为 "先进半导体材料光刻技术")是一家荷兰跨国公司,成立于1984年,是荷兰先进半导体材料国际(ASMI)和飞利浦公司的合资企业。
ASML是半导体行业的一个创新领导者。他们为芯片制造商提供他们所需要的一切--硬件、软件和服务--通过光刻技术在硅上大规模生产图案。

Nikon
Nikon公司,也被称为尼康,是一家日本跨国公司,总部设在日本东京,专门从事光学和成像产品。由尼康控股的公司组成了尼康集团。

ASML控股公司是在光刻设备市场运营的主要参与者之一,在2022年占有78.39%的份额。

ASML Holding, Nikon, Canon, JEOL, Nuflare Technology 是全球光刻设备市场的五个主要参与者。这些公司在过去5年中表现出收入的持续增长、较大的销售量和在全球市场上的突出份额。

I-line
I-line光刻使用曝光波长为365纳米的紫外光。在该光学器件中,使用高压水银蒸气灯。这为制造商提供了优越的性能和成本优势。i-line光刻设备用于半导体制造和汽车等行业。

氟化氪激光器(KrF激光器)是一种特殊类型的准分子激光器,有时被称为准分子激光器。它的波长为248纳米,是一种深紫外激光器。氟化氪光刻设备通常用于半导体集成电路的生产、工业微机械加工和科学研究。

氟化氩干式(ArF干式)
氟化氩激光器(ArF激光器)是一种特殊类型的准分子激光器,有时(更准确地说)称为准分子激光器。它具有193纳米波长,是一种深紫外激光器,通常用于半导体集成电路的生产、眼科手术、微机械加工和科学研究。ArF干式光刻光源被用于在晶片上一致地形成大量中临界层的图案,同时提供延长的模块寿命和更大的临界尺寸(CD)控制。

氟化氩浸没(ArFi)
ArF浸没光源具有193nm波长,用于在IC生产过程中对关键层进行图案化,并用于支持世界先进半导体生产节点的多图案化应用。

极端紫外(EUV)
极端紫外光刻(也称为EUV或EUVL)是一种光学光刻技术,用于步进机、为计算机和其他电子设备制造集成电路(IC)的机器。它使用一系列极紫外(EUV)波长,大致跨越约13.5nm的2%半高宽带宽,通过将反射光掩模暴露于紫外光来产生图案,紫外光被反射到由光致抗蚀剂覆盖的衬底上。它广泛应用于半导体器件制造工艺中

按类型划分,2021,极端紫外线(EUV)市场占有最大份额。

集成电路(IC)
光刻设备主要用于集成电路(芯片)的前端制造和后端封装。

平板显示器(FPD)
平板显示器是一种用于显示文本或图像等视觉内容的电子显示器。它存在于消费品、医疗、运输和工业设备中。光刻设备也用于制造平板显示器。

从应用来看,从2017年到2022年,集成电路(IC)部门占据了最大的份额。

查看报告目录
http://www.lstxf.com/reports/338175-lithography-equipment-market-report.html

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