作为光刻胶曝光的核心材料，其分辨率是衡量光刻胶关键尺寸（如器件的线宽）的指标。 光刻胶的分辨率越高，图形的关键尺寸就越小。 光刻胶的质量和性能是影响集成电路性能、良率和可靠性的关键因素。 光刻成本约占整个芯片制造过程的35%，时间消耗约占整个芯片制造过程的40%~50%。 光刻胶材料约占IC制造材料总成本的4%，市场巨大。 因此，光刻胶是半导体集成电路制造的核心材料。
EUV通过缩短光的波长来提高曝光时的分辨率，以满足精细图案线条的加工制造要求。 EUV是实现14nm节点以下最可行的方案。 一旦EUV技术成熟，EUV光刻胶将成为未来7nm、5nm工艺芯片的主流材料，其在半导体制造中的比重将逐步提升。
从极紫外（EUV）光刻胶的生产情况来看，生产难度较大。 主要受上游材料短缺和企业用工影响，极紫外（EUV）光刻胶行业原材料价格也将面临涨价。 因此，疫情对极紫外（EUV）光刻胶的发展极为不利，行业面临生产成本增加的严峻挑战。
面对疫情，极紫外（EUV）光刻胶产业链各环节企业需要采取的主要应对措施是实时关注疫情形势和行业信息动态，统筹部署 根据情况进行各种任务。 生产企业还应注意设备维护、人员组织管理等生产准备工作。
2022-2027年，中国预计将有强劲的增长前景。
TOK是极紫外（EUV）光刻胶市场的主要参与者之一，2022年占有52.04%的市场份额。
TOK
TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD 是一家材料制造公司，主要专注于半导体和显示器光刻工艺用光致抗蚀剂和高纯度化学品、半导体和显示器制造加工设备以及无机和有机化学品。 公司总部位于日本，通过两个业务部门运营：材料业务和设备业务。 该公司通过材料业务部门提供光刻胶产品。 此外，它在亚太地区、北美和欧洲拥有强大的影响力。
业务：用于半导体和显示器光刻工艺的光刻树脂（光刻胶），以高纯度化学品为中心的制造材料，半导体和显示器制造设备，以及其他无机和有机化学品。
Shin-Etsu
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Shin-Etsu 在聚氯乙烯、半导体硅和光掩模基板方面拥有全球最大的市场份额。
Shin-Etsu 将其业务分为三个不同的组：
有机和无机化学品
主要产品：聚氯乙烯（PVC）、有机硅、甲醇、氯甲烷、纤维素衍生物、聚乙烯醇、烧碱、金属硅
电子材料
主营产品：半导体硅、有机材料、电子工业用稀土磁体、光刻胶产品
功能材料
主要产品：合成石英、稀土及通用稀土磁体
在不同的产品类型中，7纳米细分市场预计将在2027年贡献最大的市场份额。
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http://www.lstxf.com/reports/1749639-extreme-ultraviolet--euv--photoresist-market-report.html
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